MEKICRON分散性染料系列

產品簡介



濃度% Depth
2.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
6-7


1/1
7


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
3-4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感
Reduction Material
+

產品簡介



濃度% Depth
2.0


染料類型 Energy Type
SE


PH範圍 PH stability
4-6


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
3


1/1
3


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感
Reduction Material
++

產品簡介



濃度% Depth
2.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-9


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
7


1/1
>7


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
3-4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4-5


鹼性 Alkaline
4-5


還原物敏感
Reduction Material
++

產品簡介



濃度% Depth
0.3


染料類型 Energy Type
E


PH範圍 PH stability
4-10


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5-6


1/1
6


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4-5


鹼性 Alkaline
4-5


還原物敏感
Reduction Material
++

產品簡介



濃度% Depth
1.5


染料類型 Energy Type
SE


PH範圍 PH stability
4-8


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5


1/1
5-6


水洗 Washing
3-4


昇華牢度 Sublimation
3


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
3-4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感
Reduction Material
++

產品簡介



濃度% Depth
3.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-9


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5


1/1
6


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
3


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感
Reduction Material
++