MEKICRON分散性染料系列

產品簡介



濃度% Depth
2.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5-6


1/1
6


水洗 Washing
4-5


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感性
Reduction Material
++

產品簡介



濃度% Depth
3.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5


1/1
5-6


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
3-4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感性
Reduction Material
+

產品簡介



濃度% Depth
3.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-4.5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
4


1/1
4


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4-5


鹼性 Alkaline
4-5


還原物敏感性
Reduction Material
-

產品簡介



濃度% Depth
3.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-4.5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
4


1/1
5


水洗 Washing
4-5


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感性
Reduction Material
-

產品簡介



濃度% Depth
4.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-4.5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5-6


1/1
5-6


水洗 Washing
4-5


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4-5


鹼性 Alkaline
4-5


還原物敏感性
Reduction Material
-

產品簡介



濃度% Depth
3.0


染料類型 Energy Type
S


PH範圍 PH stability
4-4.5


日曬牢度（氙燈）
Xenon-Arc Light
1/3
5


1/1
5-6


水洗 Washing
4


昇華牢度 Sublimation
4


汗漬 Perspiration
酸性 Acid
4


鹼性 Alkaline
4


還原物敏感性
Reduction Material
++